薄膜厚度对Ni-Zn铁氧体薄膜性能的影响
来源期刊：磁性材料及器件2012年第5期
论文作者：李雪 余忠 孙科 李金龙 黄晓东 兰中文
文章页码：13 - 16
关键词：射频磁控溅射;Ni-Zn铁氧体薄膜;薄膜厚度;磁性能;
摘 要：采用射频磁控溅射法在Si（100）基片上沉积Ni0.5Zn0.5Fe2O4铁氧体薄膜,研究了薄膜厚度对其结构和性能的影响。结果表明,在800℃空气中退火时,Si基片与Ni-Zn铁氧体薄膜存在相互渗透。随薄膜厚度增加,薄膜样品晶格常数及晶粒尺寸增大,饱和磁化强度Ms和矫顽力Hc均略有增加。
李雪，余忠，孙科，李金龙，黄晓东，兰中文
电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室
摘 要：采用射频磁控溅射法在Si（100）基片上沉积Ni0.5Zn0.5Fe2O4铁氧体薄膜,研究了薄膜厚度对其结构和性能的影响。结果表明,在800℃空气中退火时,Si基片与Ni-Zn铁氧体薄膜存在相互渗透。随薄膜厚度增加,薄膜样品晶格常数及晶粒尺寸增大,饱和磁化强度Ms和矫顽力Hc均略有增加。
关键词：射频磁控溅射;Ni-Zn铁氧体薄膜;薄膜厚度;磁性能;
