简介概要

氮化镓薄膜及其研究进展

来源期刊:材料研究学报2000年增刊第1期

论文作者:朱鹤孙 曹传宝

关键词:氮化镓; 半导体; 结构; 薄膜;

摘    要:介绍了GaN薄膜材料的主要制备方法、GaN薄膜结晶学、GaN薄膜材料的性质和应用领域,总结了GaN材料研究中存在的主要问题.

详情信息展示

氮化镓薄膜及其研究进展

朱鹤孙1,曹传宝1

(1.北京理工大学)

摘要:介绍了GaN薄膜材料的主要制备方法、GaN薄膜结晶学、GaN薄膜材料的性质和应用领域,总结了GaN材料研究中存在的主要问题.

关键词:氮化镓; 半导体; 结构; 薄膜;

【全文内容正在添加中】

<上一页 1 下一页 >

有色金属在线官网  |   会议  |   在线投稿  |   购买纸书  |   科技图书馆

中南大学出版社 技术支持 版权声明   电话:0731-88830515 88830516   传真:0731-88710482   Email:administrator@cnnmol.com

互联网出版许可证:(署)网出证(京)字第342号   京ICP备17050991号-6      京公网安备11010802042557号