水浸超声C扫描系统在等离子喷涂靶材缺陷检测中的应用
来源期刊：理化检验物理分册2017年第2期
论文作者：张科 李强
文章页码：105 - 109
关键词：等离子喷涂靶材;水浸超声C扫描;缺陷检测;孔洞;密度不均匀;
摘 要：通过控制等离子喷涂工艺,在靶材涂层内部分别人为制备孔洞、密度分布不均匀两种典型缺陷,并进行水浸超声C扫描成像及波形分析。结果表明:检测结果与人工设计缺陷基本相符,验证了水浸超声C扫描系统用于检测等离子喷涂靶材缺陷具有足够的灵敏度及可靠性,这对于喷涂靶材产品的质量控制具有重要意义。
张科1，李强1
1. 福州大学材料科学与工程学院
摘 要：通过控制等离子喷涂工艺,在靶材涂层内部分别人为制备孔洞、密度分布不均匀两种典型缺陷,并进行水浸超声C扫描成像及波形分析。结果表明:检测结果与人工设计缺陷基本相符,验证了水浸超声C扫描系统用于检测等离子喷涂靶材缺陷具有足够的灵敏度及可靠性,这对于喷涂靶材产品的质量控制具有重要意义。
关键词：等离子喷涂靶材;水浸超声C扫描;缺陷检测;孔洞;密度不均匀;
