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交流阻抗测定化学镀镍的电化学机理

来源期刊：工程科学学报1991年第2期

论文作者：胡茂圃栾本利

文章页码：162 - 168

关键词：化学镀镍;电化学机理;交流阻抗测量;

摘要：采用交流阻抗技术对化学镀Ni-P合金的沉积过程进行原位测定,所获得的Nyquist阻抗图上出现感抗圈。综合交流抗击以及还原剂浓度影响研究结果,提出一个包括H₂PO₂^-离子表面吸附步骤的化学镀镍电化学机理。

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胡茂圃，栾本利

北京科技大学表面科学与腐蚀工程系

关键词：化学镀镍;电化学机理;交流阻抗测量;