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脉冲激光沉积技术在磁性薄膜制备中的应用

来源期刊:材料导报2003年第2期

论文作者:江建军 邓联文 何华辉

关键词:脉冲激光制膜; 磁性薄膜; 外延生长; 超晶格;

摘    要:脉冲激光沉积制膜(PLD)是近年来迅速发展起来的制膜新技术,首先简要介绍了脉冲激光沉积技术的原理、特点和优势以及在磁性功能薄膜研究中的应用,最后说明了该技术的最新发展趋势.

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脉冲激光沉积技术在磁性薄膜制备中的应用

江建军1,邓联文1,何华辉1

(1.华中科技大学电子科学与技术系,武汉,430074)

摘要:脉冲激光沉积制膜(PLD)是近年来迅速发展起来的制膜新技术,首先简要介绍了脉冲激光沉积技术的原理、特点和优势以及在磁性功能薄膜研究中的应用,最后说明了该技术的最新发展趋势.

关键词:脉冲激光制膜; 磁性薄膜; 外延生长; 超晶格;

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