DBD-CVD法制备掺氮二氧化钛薄膜及其结构性能
来源期刊:材料科学与工程学报2012年第1期
论文作者:高倩 李喆 李铭 刘涌 宋晨路 韩高荣
文章页码:93 - 97
关键词:TiO2薄膜;介质阻挡放电化学气相沉积(DBD-CVD);表面微观结构;掺N;光催化性;亲水性;
摘 要:采用介质阻挡放电化学气相沉积(DBD-CVD)法制备TiO2透明自清洁功能薄膜,选用四异丙醇钛(TTIP)、NH3作为反应先驱体,另外再加入一定量的N2、Ar或者He作为稀释气体控制气体的流量和流速。通过对其进行X射线衍射、紫外-可见光谱、X光电子能谱、场发射扫描电镜、光催化性质、光亲水性质等测试表明,过DBD-CVD方法制备TiO2薄膜,只存在锐钛矿相,氮掺杂改变了薄膜中锐钛矿相晶粒生长的取向,从而影响薄膜的表面微观结构,促使光吸收限红移,提高了薄膜在可见光照射下的光催化效率,并改善了薄膜表面的亲水性能。
高倩,李喆,李铭,刘涌,宋晨路,韩高荣
浙江大学材料科学与工程学系硅材料国家重点实验室
摘 要:采用介质阻挡放电化学气相沉积(DBD-CVD)法制备TiO2透明自清洁功能薄膜,选用四异丙醇钛(TTIP)、NH3作为反应先驱体,另外再加入一定量的N2、Ar或者He作为稀释气体控制气体的流量和流速。通过对其进行X射线衍射、紫外-可见光谱、X光电子能谱、场发射扫描电镜、光催化性质、光亲水性质等测试表明,过DBD-CVD方法制备TiO2薄膜,只存在锐钛矿相,氮掺杂改变了薄膜中锐钛矿相晶粒生长的取向,从而影响薄膜的表面微观结构,促使光吸收限红移,提高了薄膜在可见光照射下的光催化效率,并改善了薄膜表面的亲水性能。
关键词:TiO2薄膜;介质阻挡放电化学气相沉积(DBD-CVD);表面微观结构;掺N;光催化性;亲水性;