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BiVO4/rGO的水热控制合成及其光催化性能研究

来源期刊:功能材料2017年第10期

论文作者:刘乃亮 庞波 理莎莎 连欣巧 姚秉华

文章页码:10077 - 20169

关键词:矾酸铋;还原氧化石墨烯;水热法;光催化降解;亚甲基蓝;

摘    要:以氧化石墨烯(GO)为模板,以乙二胺四乙酸(EDTA)为络合剂,采用水热控制合成方法制备了矾酸铋/还原氧化石墨烯(BiVO4/rGO)复合光催化剂。利用XRD、FT-IR、SEM、TEM、UV-Vis和BET对BiVO4/rGO复合光催化剂进行了表征与分析。结果表明,GO较大的比表面积有利于单斜相多面体结构的BiVO4晶体在其表面的分散,BiVO4颗粒尺寸约在80100nm;BiVO4/rGO的禁带宽度为2.21eV,低于BiVO4的2.32eV,更利于电子和空穴的产生;BiVO4的平均孔径为3.54nm,比表面积为12.17m2/g,而BiVO4/rGO的平均孔径为4.32nm,比表面积为16.04m2/g;BiVO4/rGO复合光催化剂对亚甲基蓝(MB)的降解在100min达到稳定,降解率为88.49%,而相同条件下的纯BiVO4对MB的降解率为65.56%,BiVO4/rGO复合光催化剂的活性更高的原因是rGO为电子受体为光生电子和空穴提供了转移通道,可以抑制电子和空穴的复合。

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BiVO4/rGO的水热控制合成及其光催化性能研究

刘乃亮,庞波,理莎莎,连欣巧,姚秉华

西安理工大学理学院应用化学系

摘 要:以氧化石墨烯(GO)为模板,以乙二胺四乙酸(EDTA)为络合剂,采用水热控制合成方法制备了矾酸铋/还原氧化石墨烯(BiVO4/rGO)复合光催化剂。利用XRD、FT-IR、SEM、TEM、UV-Vis和BET对BiVO4/rGO复合光催化剂进行了表征与分析。结果表明,GO较大的比表面积有利于单斜相多面体结构的BiVO4晶体在其表面的分散,BiVO4颗粒尺寸约在80100nm;BiVO4/rGO的禁带宽度为2.21eV,低于BiVO4的2.32eV,更利于电子和空穴的产生;BiVO4的平均孔径为3.54nm,比表面积为12.17m2/g,而BiVO4/rGO的平均孔径为4.32nm,比表面积为16.04m2/g;BiVO4/rGO复合光催化剂对亚甲基蓝(MB)的降解在100min达到稳定,降解率为88.49%,而相同条件下的纯BiVO4对MB的降解率为65.56%,BiVO4/rGO复合光催化剂的活性更高的原因是rGO为电子受体为光生电子和空穴提供了转移通道,可以抑制电子和空穴的复合。

关键词:矾酸铋;还原氧化石墨烯;水热法;光催化降解;亚甲基蓝;

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