Si基底上直接电沉积Fe-Ni合金薄膜的研究（英文）

来源期刊：稀有金属材料与工程2014年第12期

论文作者：刘意春 张家敏 严继康 杜景红 甘国友 易健宏

文章页码：2966 - 2968

关键词：Fe-Ni合金薄膜;电沉积;硅基底;磁性能;

摘    要：在n-型Si片（100）面上直接电沉积Fe-Ni合金薄膜,并对电沉积过程特征及薄膜的结构和性能进行了研究。当阴极电流密度高于1.0 A/dm2时,可获得连续致密的合金薄膜,且电沉积表现为异常共沉积过程。在1.0⁴.0 A/dm2范围内改变电流密度可调控合金薄膜的Ni质量分数从45%到78%之间改变,对应的电流效率在60%到66%之间变动。从XRD和TEM结果来看,合金薄膜由尺寸为10³0nm的纳米晶粒组成,且表现为Fe-Ni面心立方固溶体结构。合金薄膜的磁滞回线表现出较高的饱和磁化强度和接近于零的矫顽力,表明该种纳米合金薄膜具有很好的软磁性能。