氧化钍的掺杂方式对碳化钍钨阴极微观组织与力学性能的影响
来源期刊:粉末冶金技术2016年第4期
论文作者:葛春桥 王金淑 董丽然
文章页码:254 - 257
关键词:热电子发射;掺杂;碳化钍钨;晶粒度;原子薄膜阴极;
摘 要:以固-固与液-固两种掺杂方式研究了氧化钍掺杂对碳化钍钨阴极微观组织与力学性能的影响。利用SEM、EDS与金相显微镜分析了碳化钍钨的显微组织,并用静压力计与冲击试验台测试了两种碳化钍钨阴极的力学性能。研究结果表明,氧化钍的液-固掺杂后钨基体中氧化钍分布的均匀性优于固-固掺杂,且碳化后钍钨阴极的晶粒尺寸明显小于固-固掺杂,抗冲击能量与静压强度均高于固-固掺杂的钍钨阴极。
葛春桥1,王金淑2,董丽然2
1. 广东威特真空电子制造有限公司2. 北京工业大学材料科学与工程学院
摘 要:以固-固与液-固两种掺杂方式研究了氧化钍掺杂对碳化钍钨阴极微观组织与力学性能的影响。利用SEM、EDS与金相显微镜分析了碳化钍钨的显微组织,并用静压力计与冲击试验台测试了两种碳化钍钨阴极的力学性能。研究结果表明,氧化钍的液-固掺杂后钨基体中氧化钍分布的均匀性优于固-固掺杂,且碳化后钍钨阴极的晶粒尺寸明显小于固-固掺杂,抗冲击能量与静压强度均高于固-固掺杂的钍钨阴极。
关键词:热电子发射;掺杂;碳化钍钨;晶粒度;原子薄膜阴极;