氮氩混合比对TA2真空氮化层结构与性能的影响

来源期刊：材料导报2017年第4期

论文作者：祝园园 刘静 熊茫茫 杨峰 杨闯

文章页码：79 - 82

关键词：TA2工业纯钛;真空渗氮;氮氩比;

摘    要：采用间歇式真空氮化技术对TA2钛合金进行渗氮处理。探究氮氩混合比对合金氮化层结构和性能的影响规律。结果表明:表面渗氮层主要由TiN和TiN0.3相组成,氮氩比越低其有效硬化层越厚,但会降低有效活性N原子的相对含量,不利于渗层的致密性。适当的氮氩混合比能在TA2表面形成氮化物,N原子有效地向纵深扩散,氮化物层与扩散层结合紧密,过渡良好,硬度梯度平缓;腐蚀电位随着氮氩比的增加呈现逐渐上升趋势,从氮氩比为1∶5时的-0.622V提升到氮氩比为5∶1时的-0.549V,腐蚀电流和腐蚀速率则呈现出逐渐降低的趋势。