PIN型快速恢复二极管的研究与应用
来源期刊:材料导报2012年第19期
论文作者:韦文生 戴瑜兴 张正江 李晶
文章页码:17 - 20
关键词:快速恢复二极管;发射率控制;少子寿命控制;硅;碳化硅;
摘 要:剖析了改善快速恢复二极管(Fast recovery diode,FRD)反向恢复性能的发射率控制及少子寿命控制的实施方案。探究了间接带隙半导体硅FRD与SiGe、GaN、SiC等直接带隙半导体FRD的反向恢复性能,介绍了SiC的欧姆接触技术。比较了硅FRD与碳化硅FRD的实际应用效果,发现前者的反向及动态特性均落后于后者的性能,后者特别适合于高频、高电压、大功率技术领域的应用。
韦文生,戴瑜兴,张正江,李晶
温州大学物理与电子信息工程学院
摘 要:剖析了改善快速恢复二极管(Fast recovery diode,FRD)反向恢复性能的发射率控制及少子寿命控制的实施方案。探究了间接带隙半导体硅FRD与SiGe、GaN、SiC等直接带隙半导体FRD的反向恢复性能,介绍了SiC的欧姆接触技术。比较了硅FRD与碳化硅FRD的实际应用效果,发现前者的反向及动态特性均落后于后者的性能,后者特别适合于高频、高电压、大功率技术领域的应用。
关键词:快速恢复二极管;发射率控制;少子寿命控制;硅;碳化硅;