非均相沉淀法制备铜包覆纳米SiO2复合粉体
来源期刊：粉末冶金材料科学与工程2008年第5期
论文作者：杜建华 李超 刘贵民 柳青青 韩文政
文章页码：291 - 295
关键词：非均相沉积法;Cu;纳米SiO2;包覆;
摘 要：采用非均相沉积法,利用Cu+的歧化反应,在纳米SiO2表面沉积包覆一层Cu,制备铜包覆纳米SiO2复合粉体,并研究pH值对包覆效果的影响。通过扫描电镜（SEM）、电子能谱仪（EDS）、X射线衍射仪（XRD）和透射电镜（TEM）分析复合粉体的形貌、成分和结构。结果表明:Cu包覆纳米SiO2复合颗粒分散均匀,粒径约200nm;粒内均匀分布着纳米SiO2颗粒,且被铜包覆隔离;在反应温度为50℃,pH=23条件下利于形成核?壳结构的复合粉体。
杜建华1，李超1，刘贵民1，柳青青2，韩文政1
1. 装甲兵工程学院装备再制造工程系2. 装甲兵技术学院基础部
摘 要：采用非均相沉积法,利用Cu+的歧化反应,在纳米SiO2表面沉积包覆一层Cu,制备铜包覆纳米SiO2复合粉体,并研究pH值对包覆效果的影响。通过扫描电镜（SEM）、电子能谱仪（EDS）、X射线衍射仪（XRD）和透射电镜（TEM）分析复合粉体的形貌、成分和结构。结果表明:Cu包覆纳米SiO2复合颗粒分散均匀,粒径约200nm;粒内均匀分布着纳米SiO2颗粒,且被铜包覆隔离;在反应温度为50℃,pH=23条件下利于形成核?壳结构的复合粉体。
关键词：非均相沉积法;Cu;纳米SiO2;包覆;
