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系统压强对微波等离子体化学气相沉积金刚石成核的影响

来源期刊：功能材料与器件学报2001年第3期

论文作者：夏义本方志军王林军居建华杨莹张伟丽范轶敏王志明

关键词：MPCVD; 金刚石膜; 氧化铝; 气体压力; 成核密度;

摘要：为了在氧化铝上制备(100)定向织构的金刚石薄膜，必须先提高金刚石的成核密度。在微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）系统中，采用低压成核的方法，在氧化铝陶瓷上沉积出高成核密度的金刚石薄膜。扫描电镜显示其成核密度可达108cm－2。在此基础上，沉积出（100）织构的金刚石薄膜。

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夏义本¹，方志军¹，王林军¹，居建华¹，杨莹¹，张伟丽¹，范轶敏¹，王志明¹

(1.上海大学材料科学与工程学院,)

摘要:为了在氧化铝上制备(100)定向织构的金刚石薄膜，必须先提高金刚石的成核密度。在微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）系统中，采用低压成核的方法，在氧化铝陶瓷上沉积出高成核密度的金刚石薄膜。扫描电镜显示其成核密度可达108cm－2。在此基础上，沉积出（100）织构的金刚石薄膜。

关键词:MPCVD; 金刚石膜; 氧化铝; 气体压力; 成核密度;

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