超大规模集成电路硅片的内吸杂
来源期刊:材料导报2003年第5期
论文作者:马向阳 杨德仁 汤艳 樊瑞新 阙端麟 李东升
关键词:硅; 内吸杂; 金属; 氧;
摘 要:介绍了吸杂的分类与效果以及内吸杂工艺,并综述了金属在硅中的性质,主要阐明了氧在内吸杂中的作用,简述了氮对吸杂的影响,并讨论了内吸杂的物理机理.最后探讨了今后吸杂的发展方向.
马向阳1,杨德仁1,汤艳1,樊瑞新1,阙端麟1,李东升1
(1.浙江大学硅材料科学国家重点实验室,杭州,310027)
摘要:介绍了吸杂的分类与效果以及内吸杂工艺,并综述了金属在硅中的性质,主要阐明了氧在内吸杂中的作用,简述了氮对吸杂的影响,并讨论了内吸杂的物理机理.最后探讨了今后吸杂的发展方向.
关键词:硅; 内吸杂; 金属; 氧;
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