KrF激光刻蚀制备300 nm自支撑聚酰亚胺膜

来源期刊：材料导报2019年第S2期

论文作者：刘仁臣 陆静

文章页码：580 - 583

关键词：聚酰亚胺;自支撑;脱膜;激光刻蚀;

摘    要：本工作探讨了微纳米量级聚酰亚胺（PI）自支撑薄膜的制备。以4,4’-二氨基二苯醚（ODA）和均苯四甲酸二酐（PMDA）为单体合成聚酰胺酸（PAA）溶液。经热亚胺化后脱膜得到厚度为900nm的自支撑PI薄膜。亚胺化程度用傅里叶变换红外光谱仪（FT-IR）测试,表面形貌用透射式显微镜观测。结果显示,在低于250℃下制备的ZnO薄膜适合作为脱膜剂;采用KrF准分子激光对薄膜刻蚀,当能量密度为45mJ/cm²时刻蚀110个脉冲,得到了表面平整且厚度为300nm的自支撑PI薄膜。