镁合金表面磁控溅射CN_x/SiC双层膜的性能
来源期刊：机械工程材料2011年第3期
论文作者：许晓静 郝欣妮 夏登福 陈丹 田琨 辛喜玲
文章页码：83 - 86
关键词：镁合金;薄膜;纳米压痕;摩擦磨损;磁控溅射;
摘 要：采用室温磁控溅射技术在AZ91D镁合金表面制备了CNx/SiC双层薄膜（SiC为中间层）,研究了界面结合情况、薄膜的力学和摩擦磨损性能。结果表明:CNx/SiC双层薄膜表面颗粒结合紧密,中间层SiC与基体和CNx层界面的结合很好,均发生了呈梯度的元素扩散,膜基附着力在12N以上;CNx薄膜具有低的纳米硬度（3.85GPa）、低的弹性模量（30.46GPa）,但却具有高的硬度与弹性模量比值（0.126）以及好的摩擦磨损性能;在以氮化硅（Si3N4）球为对偶件的室温干摩擦条件下,其摩擦因数约为0.19,磨损率为4.89×10-6mm·m-1·N-1。
许晓静，郝欣妮，夏登福，陈丹，田琨，辛喜玲
江苏大学先进成形技术研究所
摘 要：采用室温磁控溅射技术在AZ91D镁合金表面制备了CNx/SiC双层薄膜（SiC为中间层）,研究了界面结合情况、薄膜的力学和摩擦磨损性能。结果表明:CNx/SiC双层薄膜表面颗粒结合紧密,中间层SiC与基体和CNx层界面的结合很好,均发生了呈梯度的元素扩散,膜基附着力在12N以上;CNx薄膜具有低的纳米硬度（3.85GPa）、低的弹性模量（30.46GPa）,但却具有高的硬度与弹性模量比值（0.126）以及好的摩擦磨损性能;在以氮化硅（Si3N4）球为对偶件的室温干摩擦条件下,其摩擦因数约为0.19,磨损率为4.89×10-6mm·m-1·N-1。
关键词：镁合金;薄膜;纳米压痕;摩擦磨损;磁控溅射;
