中频反应溅射TiO2膜层的性能
来源期刊：钛工业进展1999年第5期
论文作者：罗建军
摘 要： TiO2是一种应用广泛的高折射率膜层,在可见光范围内是透明的,具有良好的机械性能和化学稳定性.它的存在形式有非晶态和三种晶体结构形态(金红石、锐钛矿和板钛矿).金红石结构最稳定,折射率和硬度最高.真空蒸镀是制备小规格TiO2膜层最好的沉积方法,如透镜或眼镜片的抗反射膜.磁控管溅射可以保证宽度近4 m膜层的均匀性,已经成为大规格膜层的主要制备方法,但是这种方法沉积率非常低,难以实用.采用双磁控管技术配合以40 kHz的中频电源,可使TiO2膜层的沉积速率大幅度提高.
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摘要: TiO2是一种应用广泛的高折射率膜层,在可见光范围内是透明的,具有良好的机械性能和化学稳定性.它的存在形式有非晶态和三种晶体结构形态(金红石、锐钛矿和板钛矿).金红石结构最稳定,折射率和硬度最高.真空蒸镀是制备小规格TiO2膜层最好的沉积方法,如透镜或眼镜片的抗反射膜.磁控管溅射可以保证宽度近4 m膜层的均匀性,已经成为大规格膜层的主要制备方法,但是这种方法沉积率非常低,难以实用.采用双磁控管技术配合以40 kHz的中频电源,可使TiO2膜层的沉积速率大幅度提高.
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