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铁磁形状记忆合金Ni-Mn-Ga薄膜制备工艺研究

来源期刊：材料导报2005年增刊第2期

论文作者：陈自新郭世海李长生

关键词：铁磁形状记忆合金; Ni-Mn-Ga; 直流磁控溅射; 薄膜;

摘要：铁磁形状记忆合金(FSMA)是一种新型智能材料,Ni-Mn-Ga合金是这种材料的典型代表.使用直流磁控溅射方法在NaCl晶片上制备出Ni-Mn-Ga薄膜,并对影响其制备的主要参数--溅射功率进行了探讨.通过对Ni-Mn-Ga薄膜的成分和薄膜表面性质的分析,得知22.5W为其制备的最佳功率.

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陈自新¹，郭世海²，李长生¹

(1.江苏大学机械学院,镇江,212013;
2.钢铁研究总院功能材料研究所,北京,100081)

摘要:铁磁形状记忆合金(FSMA)是一种新型智能材料,Ni-Mn-Ga合金是这种材料的典型代表.使用直流磁控溅射方法在NaCl晶片上制备出Ni-Mn-Ga薄膜,并对影响其制备的主要参数--溅射功率进行了探讨.通过对Ni-Mn-Ga薄膜的成分和薄膜表面性质的分析,得知22.5W为其制备的最佳功率.

关键词:铁磁形状记忆合金; Ni-Mn-Ga; 直流磁控溅射; 薄膜;

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