二甲基亚砜溶剂中化学镀铋的研究
来源期刊：材料保护2004年第4期
论文作者：袁定胜 童叶翔 刘冠昆
关键词：化学镀; 铋; 二甲基亚砜;
摘 要：为了克服传统的电化学沉积铋使镀液不稳定,镀层受析氢影响的缺点,研究了一种新的以二甲亚砜为溶剂的化学镀铋体系,提出了两种可以沉积出银白光亮致密铋镀层的配方.探讨了不同基体上化学沉积铋的情况,结果以在铁片和铜片上沉积效果好,可作为代铬镀层应用.初步用电化学方法探讨了化学镀的机理,即先由铜提供电子,而后铋自催化使镀层增厚.用EDAX分析镀层确认只含铋,用XRD对镀层进行表征,证明了镀层中的铋以金属晶体存在,平均粒径为38 nm.
袁定胜1，童叶翔2，刘冠昆2
(1.暨南大学化学系,广东,广州,510632;
2.中山大学化学与化学工程学院,广东,广州,510275)
摘要:为了克服传统的电化学沉积铋使镀液不稳定,镀层受析氢影响的缺点,研究了一种新的以二甲亚砜为溶剂的化学镀铋体系,提出了两种可以沉积出银白光亮致密铋镀层的配方.探讨了不同基体上化学沉积铋的情况,结果以在铁片和铜片上沉积效果好,可作为代铬镀层应用.初步用电化学方法探讨了化学镀的机理,即先由铜提供电子,而后铋自催化使镀层增厚.用EDAX分析镀层确认只含铋,用XRD对镀层进行表征,证明了镀层中的铋以金属晶体存在,平均粒径为38 nm.
关键词:化学镀; 铋; 二甲基亚砜;
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