pH值对硅酸钇涂层结构影响的研究
来源期刊：航空材料学报2006年第5期
论文作者：罗宏杰 黄剑锋 曹丽云 邓飞 吴建鹏
关键词：硅酸钇涂层; pH值; 显微结构; 水热电沉积; 石墨;
摘 要：采用一种新颖的水热电沉积方法直接在石墨表面制备了硅酸钇涂层,利用XRD,EDS和SEM等测试手段对涂层进行测试分析,重点研究了电沉积前驱溶液pH值对涂层显微结构的影响.结果表明:当前驱液的pH值为1.5～3.0及水热温度为150℃时,即可制备出硅酸钇涂层.随前驱液pH值增加,涂层开裂趋势减弱,结晶趋势增强,致密度有所提高.
罗宏杰1，黄剑锋2，曹丽云3，邓飞2，吴建鹏2
(1.中国科学院,上海硅酸盐研究所,上海,200050;
2.陕西科技大学,材料科学与工程学院,陕西,咸阳,712081;
3.陕西科技大学,化学与化工学院,陕西,咸阳,712081)
摘要:采用一种新颖的水热电沉积方法直接在石墨表面制备了硅酸钇涂层,利用XRD,EDS和SEM等测试手段对涂层进行测试分析,重点研究了电沉积前驱溶液pH值对涂层显微结构的影响.结果表明:当前驱液的pH值为1.5～3.0及水热温度为150℃时,即可制备出硅酸钇涂层.随前驱液pH值增加,涂层开裂趋势减弱,结晶趋势增强,致密度有所提高.
关键词:硅酸钇涂层; pH值; 显微结构; 水热电沉积; 石墨;
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