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(Zr,Al)N薄膜的微结构及性能研究

来源期刊:材料开发与应用2008年第1期

论文作者:顾晓波 许俊华 葛云科 喻利花

关键词:(Zr,Al)N薄膜; 射频磁控反应溅射; 结构变化; 力学性能; 抗氧化性;

摘    要:采用射频磁控反应溅射在单晶Si(100)上沉积了一系列不同Al含量的(Zr,Al)N薄膜,利用能谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)和微力学探针对薄膜的成分、结构、力学和抗氧化性能进行了表征.研究结果表明,当Al含量在0%~20.31%(原子分数)之间时,薄膜是B1型(NaCl)单相结构;当Al含量为31.82%时,同时出现B1和B4型(ZnS)双相结构.当Al含量超过36.82%时,以B4结构为主.随着铝含量的增加,薄膜晶面间距减小,晶格常数变小.薄膜的力学性能测试表明,适当的Al含量可以提高薄膜的硬度.随着Al含量的增加,薄膜的抗氧化性能得到改善,对于B1型(Zr,Al)N薄膜,其结构稳定性也得到增强.

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(Zr,Al)N薄膜的微结构及性能研究

顾晓波1,许俊华1,葛云科1,喻利花1

(1.江苏科技大学材料科学与工程学院,江苏,镇江,212003)

摘要:采用射频磁控反应溅射在单晶Si(100)上沉积了一系列不同Al含量的(Zr,Al)N薄膜,利用能谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)和微力学探针对薄膜的成分、结构、力学和抗氧化性能进行了表征.研究结果表明,当Al含量在0%~20.31%(原子分数)之间时,薄膜是B1型(NaCl)单相结构;当Al含量为31.82%时,同时出现B1和B4型(ZnS)双相结构.当Al含量超过36.82%时,以B4结构为主.随着铝含量的增加,薄膜晶面间距减小,晶格常数变小.薄膜的力学性能测试表明,适当的Al含量可以提高薄膜的硬度.随着Al含量的增加,薄膜的抗氧化性能得到改善,对于B1型(Zr,Al)N薄膜,其结构稳定性也得到增强.

关键词:(Zr,Al)N薄膜; 射频磁控反应溅射; 结构变化; 力学性能; 抗氧化性;

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