溅射功率和靶基距对ZAO薄膜性能影响
来源期刊：功能材料与器件学报2011年第6期
论文作者：陆峰 徐成海
文章页码：586 - 590
关键词：ZAO薄膜;直流反应溅射;溅射功率;靶基距;
摘 要：采用直流反应磁控溅射技术,制备获得ZnO:Al（ZAO）薄膜,研究溅射功率、靶基距关键制备工艺参数对ZAO薄膜的组织结构、光、电性能的影响,并获得了最佳的溅射功率、靶基距制备参数,利用该参数制备ZAO薄膜,能够获得在可见光范围内的平均透射率》80%,最低电阻率为4.5×10-4Ω·cm的ZAO薄膜,其光电性能均满足应用需求。
陆峰1，徐成海2
1. 沈阳建筑大学交通与机械工程学院2. 东北大学机械工程与自动化学院
摘 要：采用直流反应磁控溅射技术,制备获得ZnO:Al（ZAO）薄膜,研究溅射功率、靶基距关键制备工艺参数对ZAO薄膜的组织结构、光、电性能的影响,并获得了最佳的溅射功率、靶基距制备参数,利用该参数制备ZAO薄膜,能够获得在可见光范围内的平均透射率》80%,最低电阻率为4.5×10-4Ω·cm的ZAO薄膜,其光电性能均满足应用需求。
关键词：ZAO薄膜;直流反应溅射;溅射功率;靶基距;
