工艺条件对ZL205A铝合金微弧氧化膜的影响
来源期刊：腐蚀与防护2018年第11期
论文作者：李宏战 马幼平 李争显 杜继红 王毅飞 李少龙
文章页码：883 - 887
关键词：ZL205A铝合金;微弧氧化;工艺条件;
摘 要：在硅酸钠电解液体系中,采用不同工艺在ZL205A铝合金表面制备微弧氧化层。通过测厚仪、扫描电镜、X射线衍射仪等研究了氧化电压和氧化时间对膜层性能的影响。结果表明:氧化膜主要由α-Al2O3、Mullite(Al6Si2O13)、Al相及非晶相组成;氧化层的放电通道孔径尺寸随氧化电压、时间的增加不断增大;随着氧化电压、时间的增加,氧化层厚度呈线性增长;氧化膜距离基体50μm处的硬度（1 358 HV）高于距离基体200μm处的（1 176HV）。通过工艺条件调整可有效改善ZL205A铝合金微弧氧化层的膜层结构及性能。
李宏战1,2，马幼平1，李争显2，杜继红2，王毅飞2，李少龙2
1. 西安建筑科技大学冶金工程学院2. 西北有色金属研究院
摘 要：在硅酸钠电解液体系中,采用不同工艺在ZL205A铝合金表面制备微弧氧化层。通过测厚仪、扫描电镜、X射线衍射仪等研究了氧化电压和氧化时间对膜层性能的影响。结果表明:氧化膜主要由α-Al2O3、Mullite(Al6Si2O13)、Al相及非晶相组成;氧化层的放电通道孔径尺寸随氧化电压、时间的增加不断增大;随着氧化电压、时间的增加,氧化层厚度呈线性增长;氧化膜距离基体50μm处的硬度（1 358 HV）高于距离基体200μm处的（1 176HV）。通过工艺条件调整可有效改善ZL205A铝合金微弧氧化层的膜层结构及性能。
关键词：ZL205A铝合金;微弧氧化;工艺条件;
