提高MPCVD金刚石薄膜均匀性的研究

来源期刊：硬质合金2015年第3期

论文作者：赵彦君 何莲 阳硕 张文豪 满卫东

文章页码：213 - 220

关键词：微波等离子体化学气相沉积;均匀性;偏压;沉积参数;金刚石薄膜;

摘    要：金刚石具有诸多优异的物理和化学性质,使得它在许多高新技术领域如:热沉、光学窗口、光导探测器等方面拥有广阔的应用前景。MPCVD法制备金刚石薄膜具有无极放电、沉积温度低等独特优势,是最具潜力制备高质量均匀金刚石薄膜的方法。文章从CH4和H2的浓度和流量,CO2、O2、H2O气体掺杂,微波功率和气压,2.45 GHz和915 MHz两种微波频率、衬底偏压以及衬底位置等方面,综述了不同的沉积参数对金刚石薄膜均匀性的影响。在保证金刚石薄膜质量的前提下,对如何提高金刚石薄膜均匀性进行讨论。结合市场上已经产业化的产品,在适宜的沉积参数和设备条件下可以制备出高质量均匀的金刚石薄膜,并且展望了金刚石薄膜的发展趋势。