工艺参数对Ni₈₁Fe₁₉薄膜磁性及微结构影响

来源期刊：工程科学学报2001年第3期

论文作者：赵洪辰 于广华 金成元 苏世漳 朱逢吾

文章页码：243 - 245

关键词：NiFe薄膜;各向异性磁电阻;表面粗糙度;晶粒尺寸;

摘    要：在不同本底真空和工作气压下制备了不同厚度的Ｎｉ８１Ｆｅ１９／Ｔａ薄膜，并进行了磁性测量 和原子力显微镜分析．结果表明，较厚的薄膜、较高的本底真空和较低的工作气压下制备的薄 膜有较大的各向异性磁电阻．其原因是高本底真空和低工作气压导致大晶粒度和低粗糙度，进 而降低电子的散射，减小电阻Ｒ，增大△Ｒ／Ｒ．而较厚薄膜中，大晶粒度的作用将抵消高粗糙度的 负作用，使△Ｒ／Ｒ值增大．