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丙烯基硫脲对低磷化学镀镍沉积过程的影响

来源期刊:腐蚀科学与防护技术1999年第2期

论文作者:张永忠

关键词:丙烯基硫脲; 化学镀镍; 沉积过程;

摘    要:通过电化学测量技术研究了丙烯基硫脲对低磷化学镀镍过程的影响.结果表明,丙烯基硫脲在低浓度时(<5mg/L),通过电子转移机理加速了Ni2+的还原过程,表现出明显的加速作用;在高浓度时(>5mg/L),由于电极表面较厚吸附层的存在,阻碍了H2PO-2在催化表面的氧化反应,表现为对沉积反应的抑制作用.

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丙烯基硫脲对低磷化学镀镍沉积过程的影响

张永忠1

(1.北京有色金属研究总院复合材料中心,北京,100088)

摘要:通过电化学测量技术研究了丙烯基硫脲对低磷化学镀镍过程的影响.结果表明,丙烯基硫脲在低浓度时(<5mg/L),通过电子转移机理加速了Ni2+的还原过程,表现出明显的加速作用;在高浓度时(>5mg/L),由于电极表面较厚吸附层的存在,阻碍了H2PO-2在催化表面的氧化反应,表现为对沉积反应的抑制作用.

关键词:丙烯基硫脲; 化学镀镍; 沉积过程;

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