CHF3/C6H6等离子体中的基团分析
来源期刊：功能材料与器件学报2003年第3期
论文作者：叶超 杜伟 宁兆元 李戈扬 程珊华 辛煜
关键词：电子回旋共振等离子体; 氟化非晶碳薄膜; 四极质谱; 发射光谱;
摘 要：在一个微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积系统中,测量了 CHF3、 C6H6及其混合气体放电的质谱和发射光谱图,分析了等离子体中主要基团的分布及其产生的途径,研究了放电功率和流量对主要基团密度的影响,以及它们与氟化非晶碳薄膜沉积速率和键结构之间的关联.结果表明,提高微波功率会增加 CHx、 CFx等成膜基团的密度,有利于加大沉积速率;而增加 CHF3的进气量则会加大 F原子基团的密度,这是由于它控制了薄膜的氟化程度.
叶超1，杜伟1，宁兆元1，李戈扬2，程珊华1，辛煜1
(1.苏州大学物理系,苏州,215006;
2.上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,上海,200030)
摘要:在一个微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积系统中,测量了 CHF3、 C6H6及其混合气体放电的质谱和发射光谱图,分析了等离子体中主要基团的分布及其产生的途径,研究了放电功率和流量对主要基团密度的影响,以及它们与氟化非晶碳薄膜沉积速率和键结构之间的关联.结果表明,提高微波功率会增加 CHx、 CFx等成膜基团的密度,有利于加大沉积速率;而增加 CHF3的进气量则会加大 F原子基团的密度,这是由于它控制了薄膜的氟化程度.
关键词:电子回旋共振等离子体; 氟化非晶碳薄膜; 四极质谱; 发射光谱;
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