Nafion修饰金电极阳极溶出伏安法测定痕量碲
来源期刊：分析试验室1995年第4期
论文作者：仰蜀薰 田慧敏 孙炳耀
关键词：Nafion修饰电极;阳极溶出伏安法;碲的测定;
摘 要：本文用Ｎａｆｉｏｎ修饰金盘电极，在０．０４ｍｏｌ／ＬＬｉＣｌｆｏｐＨ２的Ｈ＿（２）ＳＯ＿４底液中，阳极溶出伏安法测定痕量碲，研究了富集溶出过程的特性和优化条件，碲浓度在０．２～１５ｎｇ／ｍＬ范围内与溶出峰电流呈良好的线性关系（富集时间为２ｍｉｎ）。本法灵敏度高，选择性好，用于测定小麦粉和玉米粉中痕量碲，测定标准偏差小于０．０９７μｇ／ｇ，与ＩＣＰ测定结果比较其相对误差小于１６％。
仰蜀薰，田慧敏，孙炳耀
摘 要：本文用Ｎａｆｉｏｎ修饰金盘电极，在０．０４ｍｏｌ／ＬＬｉＣｌｆｏｐＨ２的Ｈ＿（２）ＳＯ＿４底液中，阳极溶出伏安法测定痕量碲，研究了富集溶出过程的特性和优化条件，碲浓度在０．２～１５ｎｇ／ｍＬ范围内与溶出峰电流呈良好的线性关系（富集时间为２ｍｉｎ）。本法灵敏度高，选择性好，用于测定小麦粉和玉米粉中痕量碲，测定标准偏差小于０．０９７μｇ／ｇ，与ＩＣＰ测定结果比较其相对误差小于１６％。
关键词：Nafion修饰电极;阳极溶出伏安法;碲的测定;
