pH值对还原氧化石墨结构及电容性能的影响

来源期刊：非金属矿2018年第5期

论文作者：杨芳 刘晨 杨绍斌 徐健博 沈丁

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关键词：氧化石墨;抗坏血酸;pH值;电容性能;

摘    要：以天然鳞片石墨为原料,利用改进的Hummers法制备氧化石墨(GO),再将GO经超声分散,在不同pH值条件下采用抗坏血酸进行还原,制备得到还原氧化石墨(r GO)。采用SEM、XRD、恒流充放电测试分析p H值对样品的微观结构和电容性能的影响。结果表明:所得样品为片层结构,层间距为0.348~0.366 nm。随着GO溶液pH值的增加,材料的首次放电容量和循环性能都呈现先增大后减小的趋势。在pH值为9的情况下,rGO的比电容量为141.6 F/g,经过500次循环,样品容量保持率仍能达到88%。