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疏水型介孔氧化硅薄膜的制备与研究

来源期刊：材料导报2005年第3期

论文作者：刘枫姚兰芳吴广明吴兆丰

关键词：介孔氧化硅; 介电常数; 薄膜;

摘要：报道了一种新型疏水型介孔氧化硅薄膜的制备方法.用红外光谱、小角XRD、原子力显微镜对样品进行了表征,并采用椭偏仪和阻抗分析仪测量薄膜的折射率和介电常数.该薄膜具有很低的介电常数和较好的机械强度,是一种可用于微电子工业、极富应用前景的低介电常数材料.

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刘枫¹，姚兰芳¹，吴广明¹，吴兆丰¹

(1.同济大学波耳固体物理研究所,上海,200092;
2.盐城工学院基础部,盐城,224003)

摘要:报道了一种新型疏水型介孔氧化硅薄膜的制备方法.用红外光谱、小角XRD、原子力显微镜对样品进行了表征,并采用椭偏仪和阻抗分析仪测量薄膜的折射率和介电常数.该薄膜具有很低的介电常数和较好的机械强度,是一种可用于微电子工业、极富应用前景的低介电常数材料.

关键词:介孔氧化硅; 介电常数; 薄膜;

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