简介概要

衬底温度对磁控溅射氮化铝薄膜组成的影响

来源期刊：材料导报2007年增刊第2期

论文作者：彭丽萍董建新付光宗张淑芳方亮

关键词：氮化铝薄膜; 磁控溅射; XPS; AFM;

摘要：采用高纯铝靶和氮/氩混合气氛,在玻璃衬底上用直流反应磁控溅射法制备了AlN薄膜,用X射线光电子能谱(XPS)分析了不同衬底温度下样品的组成.结果表明,AlN薄膜主要含有AlN,存在少量Al2O3及一些其它杂质;随着基片温度的升高,AlN薄膜的纯度提高.

详情信息展示

彭丽萍¹，董建新¹，付光宗¹，张淑芳¹，方亮¹

(1.重庆大学数理学院应用物理系,重庆,400044;
2.重庆大学光电技术及系统教育部重点实验室,重庆,400044)

摘要:采用高纯铝靶和氮/氩混合气氛,在玻璃衬底上用直流反应磁控溅射法制备了AlN薄膜,用X射线光电子能谱(XPS)分析了不同衬底温度下样品的组成.结果表明,AlN薄膜主要含有AlN,存在少量Al2O3及一些其它杂质;随着基片温度的升高,AlN薄膜的纯度提高.

关键词:氮化铝薄膜; 磁控溅射; XPS; AFM;

【全文内容正在添加中】