磁控溅射法制备Al_xCoCrFeNi高熵合金薄膜的微观组织和力学性能研究

来源期刊：功能材料2017年第6期

论文作者：黄纯可 李伟 刘平 张柯 马凤仓 刘新宽 陈小红 何代华

文章页码：6144 - 6148

关键词：Al_xCoCrFeNi高熵合金薄膜;微观组织;力学性能;磁控溅射;

摘    要：利用磁控溅射工艺制备了不同Al含量的（0²0%（原子分数））AlCoCrFeNi高熵合金薄膜,研究了Al含量对AlCoCrFeNi高熵合金薄膜微观结构和力学性能的影响。结果表明,Al元素的加入,使得原CoCrFeNi四元合金薄膜中的（200）峰消失,Al_xCoCrFeNi薄膜呈现出（111）晶面的择优生长取向。Al_xCoCrFeNi合金薄膜形成了面心立方单一均匀的固溶体。Al元素的加入起到了固溶强化的作用,使Al_xCoCrFeNi薄膜硬度相对于CoCrFeNi合金薄膜整体提高了1²GPa。当Al含量为0.8时,薄膜的柱状晶宽度达到最小,Al_0.8CoCrFeNi薄膜在Hall-Petch关系作用下硬度显著增加,达到最大值18.7GPa。