V2O5薄膜结构和性能研究
来源期刊：功能材料与器件学报2004年第1期
论文作者：贺德衍 许旻
关键词：V2O5薄膜; 脉冲溅射; 微结构; 光电特性;
摘 要：在常温下,用脉冲磁控溅射方法石英玻璃和硅片上制备了薄膜,经过450℃退火,得到V2O5薄膜.用XRD、XPS和AFM对薄膜微观结构进行了测试,用分光光度计测量从200～2500nm波段V2O5薄膜的透射和反射光谱.结果表明,V2O5薄膜纯度高、相结构单一、结晶度好.室温到320℃范围内电阻变化2个量级,薄膜的光学能隙为2.46eV,与V2O5体材料性能一致.
贺德衍1，许旻1
(1.兰州大学物理科学技术学院,兰州,730000;
2.兰州物理研究所,兰州,730000)
摘要:在常温下,用脉冲磁控溅射方法石英玻璃和硅片上制备了薄膜,经过450℃退火,得到V2O5薄膜.用XRD、XPS和AFM对薄膜微观结构进行了测试,用分光光度计测量从200～2500nm波段V2O5薄膜的透射和反射光谱.结果表明,V2O5薄膜纯度高、相结构单一、结晶度好.室温到320℃范围内电阻变化2个量级,薄膜的光学能隙为2.46eV,与V2O5体材料性能一致.
关键词:V2O5薄膜; 脉冲溅射; 微结构; 光电特性;
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