平栅型双层膜阴极的脉冲电压处理及场致发射性能研究

来源期刊：功能材料2014年第19期

论文作者：林金阳 张永爱 杨尊先 郭太良

文章页码：19061 - 38132

关键词：平行栅;场发射;氧化锡薄膜;氧化铋薄膜;

摘    要：采用脉冲电压法对平栅双层膜阴极进行处理,进一步提高其场致发射性能。采用磁控溅射法在平行栅电极上溅射氧化铋薄膜和氧化锡薄膜,并对薄膜进行AFM分析,通过场致发射测试结果表明,经过脉冲电压法处理后的平行栅双层膜阴极的发射性能,如亮度、均匀度等有了很大的提高,阳压为3 000 V,栅压为190 V,其腔体亮度可达462 cd/m2。平行栅双层膜阴极的脉冲电压处理可以有效改善阴极的场发射性能,为改善SED阴极结构及材料提供了一条有效的实验方法。