原子氧与真空紫外线协同效应对有机涂层的降解作用

张蕾¹，陈荣敏¹，严川伟¹

(1.中国科学院金属研究所,金属腐蚀与防护国家重点实验室,沈阳,110016;
2.辽宁大学,化学科学与工程学院,沈阳,110036;
3.淮海工学院机械工程系,江苏,连云港,222005)

摘要:为研究真空紫外与原子氧的协同作用,进行了环氧树脂和有机硅树脂的原子氧/真空紫外交互的地面模拟实验,结果表明:在交互作用中,对有机涂层破坏的主导因素是原子氧,真空紫外线起到协同作用,在切断有机高分子材料化学键的同时,为原子氧提供了反应基,加速了原子氧的反应速率.对比真空紫外辐照和原子氧/真空紫外交互实验结果分析中可以发现,有机硅树脂是较好的耐真空紫外辐射和原子氧侵蚀的有机涂层材料.

关键词:真空紫外辐射; 原子氧; 降解; 协同效应;

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