组氨酸/石墨烯修饰玻碳电极循环伏安法测定痕量铜(Ⅱ)

来源期刊：理化检验-化学分册2015年第9期

论文作者：王斌 黄骏 王洪海

文章页码：912 - 916

关键词：循环伏安法;石墨烯;组氨酸;铜(Ⅱ);

摘    要：依次用滴涂法和电化学方法将石墨烯和组氨酸修饰在玻碳电极表面,制备了组氨酸/石墨烯修饰的玻碳电极,将该电极用于循环伏安法测定铜（Ⅱ）。由于石墨烯良好的导电性能以及组氨酸的配位吸附效应,铜（Ⅱ）在该修饰电极上的氧化峰电流相对于裸玻碳电极上的显著增大。在最佳条件下,铜（Ⅱ）的浓度在2.30×10-8³.06×10-5 mol·L-1范围内与其氧化峰电流呈线性关系,测定下限（10S/N）为1.50×10-9 mol·L-1。此方法应用于实际样品中痕量铜（Ⅱ）的测定,加标回收率在94.0%¹02%之间,测定值的相对标准偏差（n=10）为2.0%,本法测定值与原子吸收光谱法测定值相符。