织构金属衬底上CSD-SrTiO₃薄膜的制备

来源期刊：稀有金属材料与工程2017年第9期

论文作者：王耀 李成山 冯建情 于泽铭 金利华 王辉 张平祥

文章页码：2679 - 2683

关键词：涂层导体;缓冲层;化学溶液沉积;

摘    要：涂层导体是发展77 K液氮温区强磁场下电力应用的实用化关键材料。由于缓冲层层数增加会导致控制生长、微观组织和界面结构的难度增大,所以简化缓冲层结构对涂层导体制备工艺的简化和成本的降低非常重要。本研究探索了低成本的化学溶液沉积（CSD）技术制备SrTiO₃（STO）缓冲层过程中前驱液热分解行为以及薄膜制备工艺路线对薄膜外延生长的影响,通过选取恰当的前驱液以及引入籽晶层沉积的方法最终获得了具有良好c轴织构且表面光滑的STO薄膜。