在多晶金属基片上制备双轴织构YSZ膜
来源期刊：中国稀土学报1998年第3期
论文作者：杨坚 郝建民 雷廷权 石东奇 袁冠森
关键词：稀土; YSZ膜; 双轴织构; 调制偏压溅射;
摘 要：采用调制偏压射频磁控溅射技术在多晶Hastelloy-C金属基带上制备钇稳定的ZrO2薄膜(YSZ), 得到了c-轴织构和部分平面内双轴织构的YSZ薄膜. 用X射线衍射θ-2θ扫描、ω扫描和φ扫描对YSZ薄膜的织构进行了测量, 并研究了沉积条件对织构形成的影响.
杨坚1，郝建民2，雷廷权3，石东奇1，袁冠森1
(1.北京有色金属研究总院,北京,100088;
2.电子部四十六研究所,天津300220;
3.哈尔滨工业大学,哈尔滨,150001)
摘要:采用调制偏压射频磁控溅射技术在多晶Hastelloy-C金属基带上制备钇稳定的ZrO2薄膜(YSZ), 得到了c-轴织构和部分平面内双轴织构的YSZ薄膜. 用X射线衍射θ-2θ扫描、ω扫描和φ扫描对YSZ薄膜的织构进行了测量, 并研究了沉积条件对织构形成的影响.
关键词:稀土; YSZ膜; 双轴织构; 调制偏压溅射;
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