太阳电池用非晶碳薄膜在黑硅衬底上的生长

来源期刊：材料导报2012年第24期

论文作者：苏博 姚宁 鲁占灵 路钟杰 关瑞红

文章页码：12 - 15

关键词：微波等离子体化学气相沉积;黑硅;非晶碳薄膜;太阳电池;

摘    要：利用微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）法在黑硅和抛光单晶硅片衬底上生长非晶碳薄膜,其中变量为CH4流量,分别为10sccm、14sccm、18sccm、22sccm、26sccm。通过扫描电子显微镜（SEM）、X射线衍射分析（XRD）、原子力显微镜（AFM）、拉曼光谱表征了非晶碳薄膜的结构和形貌特征。结果表明,在650℃时随着CH4流量的逐渐增加,在平整的非晶碳薄膜上C-C的sp2相团簇颗粒的直径逐渐变大。AFM测试结果显示,非晶碳薄膜表面的平均粗糙度（Ra）为0.494nm。