简介概要

Si3N4/MOSi2陶瓷材料力学性能研究

来源期刊:机械工程材料2000年第6期

论文作者:刘宏 沈建兴 张炳

关键词:氮化硅; 复合材料; 力学性能;

摘    要:对反应形成和热压烧结的两种试样进行了室温及高温力学性能测试.结果表明,复合材料的抗弯强度从室温至1200℃随温度升高而明显增加.用SEM对不同温度下的断裂面进行了显微结构分析.

详情信息展示

Si3N4/MOSi2陶瓷材料力学性能研究

刘宏1,沈建兴1,张炳1

(1.山东轻工业学院材料工程系 山东济南 250100)

摘要:对反应形成和热压烧结的两种试样进行了室温及高温力学性能测试.结果表明,复合材料的抗弯强度从室温至1200℃随温度升高而明显增加.用SEM对不同温度下的断裂面进行了显微结构分析.

关键词:氮化硅; 复合材料; 力学性能;

【全文内容正在添加中】

<上一页 1 下一页 >

相关论文

  • 暂无!

相关知识点

  • 暂无!

有色金属在线官网  |   会议  |   在线投稿  |   购买纸书  |   科技图书馆

中南大学出版社 技术支持 版权声明   电话:0731-88830515 88830516   传真:0731-88710482   Email:administrator@cnnmol.com

互联网出版许可证:(署)网出证(京)字第342号   京ICP备17050991号-6      京公网安备11010802042557号