8-羟基喹啉插层蒙脱土/丙烯酸酯复合荧光材料的制备
来源期刊:高分子材料科学与工程2014年第12期
论文作者:杨磊 姚其 袁雪华 郑炳云
文章页码:144 - 148
关键词:8-羟基喹啉;插层铝基蒙脱土;高荧光性;丙烯酸酯复合材料;
摘 要:为了制备具有良好加工性能和高荧光强度的8-羟基喹啉(8-OQ)类有机光致发光材料,以铝基蒙脱土(MMT)中的Al(Ⅲ)为配位中心、8-OQ为配体合成了高荧光性8-OQ插层MMT(FS-MMT),并将其与环氧丙烯酸酯(EA)复合,采用UV固化法制备了高荧光性FS-MMT/EA涂层。采用红外、X射线衍射、紫外-可见光吸收光谱及分子荧光谱仪表征了FSMMT,并研究了FS-MMT/EA涂层的吸收及荧光光谱行为。结果表明,成功制备了FS-MMT,其紫外-可见光吸收光谱分析表明8-OQ与MMT上的Al(Ⅲ)发生配位作用;而荧光强度较Alq3显著增强。而FS-MMT/EA涂层的荧光发射峰出现在490 nm附近,较FS-MMT的发生了蓝移;同时荧光强度随FS-MMT含量增加而增强,且较FS-MMT的有明显升高。
杨磊,姚其,袁雪华,郑炳云
莆田学院环境与生物工程学院
摘 要:为了制备具有良好加工性能和高荧光强度的8-羟基喹啉(8-OQ)类有机光致发光材料,以铝基蒙脱土(MMT)中的Al(Ⅲ)为配位中心、8-OQ为配体合成了高荧光性8-OQ插层MMT(FS-MMT),并将其与环氧丙烯酸酯(EA)复合,采用UV固化法制备了高荧光性FS-MMT/EA涂层。采用红外、X射线衍射、紫外-可见光吸收光谱及分子荧光谱仪表征了FSMMT,并研究了FS-MMT/EA涂层的吸收及荧光光谱行为。结果表明,成功制备了FS-MMT,其紫外-可见光吸收光谱分析表明8-OQ与MMT上的Al(Ⅲ)发生配位作用;而荧光强度较Alq3显著增强。而FS-MMT/EA涂层的荧光发射峰出现在490 nm附近,较FS-MMT的发生了蓝移;同时荧光强度随FS-MMT含量增加而增强,且较FS-MMT的有明显升高。
关键词:8-羟基喹啉;插层铝基蒙脱土;高荧光性;丙烯酸酯复合材料;