掺硅a-C∶H材料光学性质的分子动力学模拟

来源期刊：材料科学与工程学报2017年第6期

论文作者：王炎 张铭 潘妍宏 王昭辉 楚上杰 林申晔

文章页码：940 - 944

关键词：分子动力学模拟;非晶碳氢;电子结构;光学性能;

摘    要：利用分子动力学方法,对掺Si的非晶碳氢材料的结合键、C-sp3含量、电子结构、光学性能等物理性质进行了理论模拟研究。研究结果表明,在Si掺杂量小于8%时,随Si掺杂量的增加,Csp3含量,C-Si键数量均呈现增大的趋势,而C-C键数量则有所降低。在光学特性上,在波长为400⁸00nm范围内,其透过率在Si掺杂量为1.5%时达到最大值,然后,随Si掺杂量增加其透过率先减小后增大,并在掺杂量为4.5%处达到一个透过率的极小值。此外,当Si掺杂量为4.5%时,其反射率和吸收系数最大。