过渡层ZrO2对不同沉积厚度TiO2薄膜结构的影响
来源期刊：材料导报2007年第8期
论文作者：惠迎雪 杨陈 杜玉军
关键词：TiO2薄膜; ZrO2过渡层; 电子束蒸发; 薄膜厚度; 薄膜结构;
摘 要：TiO2作为高介电常数材料已被广泛研究.为了防止TiO2与Si基底发生反应,在Si与TiO2之间加入与TiI2结构相似热稳定性好的ZrO2作为过渡层.改变TiO2薄膜厚度,并在900℃对薄膜进行1h退火处理.通过XRD分析显示,随着TiO2厚度减小,各衍射峰强度逐渐降低,但各峰位及其相对强度无明显变化.通过SEM可以发现,热处理前各薄膜均无裂纹和孔洞.热处理后,TiO2厚度为150m及80nm的薄膜平整光滑无裂纹孔洞,晶粒排列致密晶界清晰,当TiO2厚度降为30nm时,薄膜仍平整光滑,只在晶界上出现因热处理而产生的缩孔.
惠迎雪1，杨陈2，杜玉军1
(1.西安工业大学光电学院,西安,710032;
2.西北工业大学材料学院,西安,710072)
摘要:TiO2作为高介电常数材料已被广泛研究.为了防止TiO2与Si基底发生反应,在Si与TiO2之间加入与TiI2结构相似热稳定性好的ZrO2作为过渡层.改变TiO2薄膜厚度,并在900℃对薄膜进行1h退火处理.通过XRD分析显示,随着TiO2厚度减小,各衍射峰强度逐渐降低,但各峰位及其相对强度无明显变化.通过SEM可以发现,热处理前各薄膜均无裂纹和孔洞.热处理后,TiO2厚度为150m及80nm的薄膜平整光滑无裂纹孔洞,晶粒排列致密晶界清晰,当TiO2厚度降为30nm时,薄膜仍平整光滑,只在晶界上出现因热处理而产生的缩孔.
关键词:TiO2薄膜; ZrO2过渡层; 电子束蒸发; 薄膜厚度; 薄膜结构;
【全文内容正在添加中】
