流动注射-化学发光法测定痕量锇(Ⅳ)的研究及应用
来源期刊：冶金分析1999年第2期
论文作者：曾云鹗 罗庆尧 韩鹤友 何治柯
关键词：流动注射; 化学发光; 吐温40; 锇;
摘 要：基于丙酮在吐温40-氢氧化钾-过氧化氢-Os(Ⅳ)体系中增强Os(Ⅳ)的化学发光,采用流动注射进样技术,建立了测定痕量锇(Ⅳ)的新的化学发光分析法.方法的线性范围为1.0×10-8～1.0×10-6gOs(Ⅳ)/mL检出限为2.0×10-9g/mL,对1.0×10-7g/mLOs(Ⅳ)标准溶液测定11次的相对标准偏差为3.0%.拟定方法用于贵金属精矿中痕量锇的测定,结果满意.本文还进行了增敏机理的探讨.
曾云鹗1，罗庆尧1，韩鹤友1，何治柯1
(1.武汉大学化学系,武汉,430072)
摘要:基于丙酮在吐温40-氢氧化钾-过氧化氢-Os(Ⅳ)体系中增强Os(Ⅳ)的化学发光,采用流动注射进样技术,建立了测定痕量锇(Ⅳ)的新的化学发光分析法.方法的线性范围为1.0×10-8～1.0×10-6gOs(Ⅳ)/mL检出限为2.0×10-9g/mL,对1.0×10-7g/mLOs(Ⅳ)标准溶液测定11次的相对标准偏差为3.0%.拟定方法用于贵金属精矿中痕量锇的测定,结果满意.本文还进行了增敏机理的探讨.
关键词:流动注射; 化学发光; 吐温40; 锇;
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