退火温度对TiO2薄膜结构与光学性能的影响

周明飞¹，宋学萍¹，孟凡明¹，孙兆奇¹

(1.安徽大学,物理与材料科学学院,安徽,合肥,230039;
2.安徽大学,光电信息获取与控制教育部重点实验室,安徽,合肥,230039)

摘要:研究退火温度对薄膜相结构、表面化学组成、形貌及光学性能的影响.采用射频磁控溅射法在单晶硅片和石英玻璃片上负载TiO2薄膜,通过X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)、X光电子能谱(XPS)和紫外可见光谱(UV-vis)对其进行表征.结果表明,常温制备400℃以下退火的TiO2薄膜为无定形结构,400℃以上退火的TiO2薄膜出现锐钛矿相,600℃以上退火的TiO2薄膜开始出现金红石相,退火温度在1000℃以上时样品已经完全转变为金红石相;高温退火薄膜的组成为TiOx;随着退火温度的升高,薄膜透射率下降,折射率和消光系数有所增加.

关键词:TiO2薄膜; 射频磁控溅射; 退火,锐钛矿; 金红石;

【全文内容正在添加中】