溅射氮分压对Zr-Nb-N薄膜结构与特性的影响

来源期刊：稀有金属与硬质合金2012年第5期

论文作者：信绍广 李宁

文章页码：37 - 40

关键词：Zr-Nb-N薄膜;磁控溅射;氮分压;相组成;方阻;显微硬度;

摘    要：在不同溅射氮分压条件下,采用射频反应磁控溅射技术于单晶硅片表面制备了Zr-Nb-N薄膜。EDS、TEM和XRD分析表明,随着氮分压的升高,薄膜中N含量上升,Nb含量下降,细晶组织粗化,同时单一相Zr-Nb-N固溶体出现NbN与ZrN两相分离。采用四探针电阻测试仪和显微硬度计分别测量了薄膜的方阻和显微硬度,结果表明随着氮分压的升高,薄膜的方阻降低,显微硬度先升高后降低。