(400)择优取向ITO薄膜制备及其红外隐身性能研究
来源期刊：功能材料2018年第9期
论文作者：陈一达 朱归胜 徐华蕊 董玲 江旭鹏 史忠峰 廖微莉
文章页码：9127 - 18267
关键词：氧化铟锡薄膜;直流溅射;(400)晶面择优;红外反射率;可见光透过率;
摘 要：通过调节磁控溅射过程中通入氧气的流量,在二氧化硅基片上制备具有"富氧层+贫氧层"结构的（400）高度择优的ITO薄膜。采用XRD、SEM等对薄膜的微观结构进行了表征,并对其可见光透过率和红外反射率进行了研究。结果显示,富氧层厚度薄时有利于获得（400）方向择优的ITO薄膜,同时（400）方向的XRD衍射峰强度随富氧层厚度的增加而降低。制备所得的厚度为350nm的ITO薄膜断面呈柱晶状,其表面粗糙度仅为2.9nm,可见光透光率可达87%,2.515μm波长的红外反射率为85%,薄膜的电阻率为1.32×10-4Ω·cm,载流子浓度和迁移率分别为1.24×1021cm-3和38.18cm2/（V·s）。"富氧层+贫氧层"的结构有利于同时获得高可见光透过率和高红外反射率的ITO薄膜,为ITO薄膜应用于红外隐身领域提供了新的思路。
陈一达，朱归胜，徐华蕊，董玲，江旭鹏，史忠峰，廖微莉
桂林电子科技大学材料科学与工程学院广西信息材料重点实验室
摘 要：通过调节磁控溅射过程中通入氧气的流量,在二氧化硅基片上制备具有"富氧层+贫氧层"结构的（400）高度择优的ITO薄膜。采用XRD、SEM等对薄膜的微观结构进行了表征,并对其可见光透过率和红外反射率进行了研究。结果显示,富氧层厚度薄时有利于获得（400）方向择优的ITO薄膜,同时（400）方向的XRD衍射峰强度随富氧层厚度的增加而降低。制备所得的厚度为350nm的ITO薄膜断面呈柱晶状,其表面粗糙度仅为2.9nm,可见光透光率可达87%,2.515μm波长的红外反射率为85%,薄膜的电阻率为1.32×10-4Ω·cm,载流子浓度和迁移率分别为1.24×1021cm-3和38.18cm2/（V·s）。"富氧层+贫氧层"的结构有利于同时获得高可见光透过率和高红外反射率的ITO薄膜,为ITO薄膜应用于红外隐身领域提供了新的思路。
关键词：氧化铟锡薄膜;直流溅射;(400)晶面择优;红外反射率;可见光透过率;
