双离子束溅射制备非晶SiOxNy薄膜的强黄光发射
来源期刊：功能材料2006年第3期
论文作者：瞿发俊 徐华 诸葛兰剑 吴雪梅
关键词：硅氮氧薄膜; 光学带隙; 光致发光(PL); silicon oxinitride film; optical band gap; photoluminescence(PL);
摘 要：用双离子束溅射法制备了SiOxNy薄膜,并对薄膜的结构和光致发光(PL)性质进行了研究.XRD和TEM的实验结果表明薄膜是非晶结构;用XPS对样品进行了表征,在397.8eV位置处出现一个对应于N1s的对称峰,表明样品中的N原子主要与Si原子结合,FTIR的实验结果也说明了这一点.光吸收测量结果显示SiOxNy薄膜的光学带隙比Si-SiO2薄膜宽.在225nm波长的激发下,测得在590nm处有强的黄光发射,并利用能带模型讨论了可能的发光机制.
瞿发俊1，徐华1，诸葛兰剑3，吴雪梅1
(1.苏州大学,物理系,江苏,苏州,215006;
2.中国科学院上海微系统与信息技术研究所,离子束重点实验室,上海,200050;
3.苏州大学,分析测试中心,江苏,苏州,215006)
摘要:用双离子束溅射法制备了SiOxNy薄膜,并对薄膜的结构和光致发光(PL)性质进行了研究.XRD和TEM的实验结果表明薄膜是非晶结构;用XPS对样品进行了表征,在397.8eV位置处出现一个对应于N1s的对称峰,表明样品中的N原子主要与Si原子结合,FTIR的实验结果也说明了这一点.光吸收测量结果显示SiOxNy薄膜的光学带隙比Si-SiO2薄膜宽.在225nm波长的激发下,测得在590nm处有强的黄光发射,并利用能带模型讨论了可能的发光机制.
关键词:硅氮氧薄膜; 光学带隙; 光致发光(PL); silicon oxinitride film; optical band gap; photoluminescence(PL);
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