真空蒸镀酞菁铜薄膜表面形貌的研究

来源期刊：中国金属通报2018年第6期

论文作者：李文佳 任舰 苏丽娜

文章页码：290 - 292

关键词：酞菁铜;蒸发电流;基板温度;退火温度;表面形貌;

摘    要：本实验采用真空镀膜技术,在不同的蒸发电流、基板温度和退火温度下制备酞菁铜薄膜。通过激光扫描显微镜(LSM)测试薄膜的表面形貌和粗糙度,讨论不同处理工艺对薄膜表面形貌的影响。每组实验粗糙度变化趋势总是先减后增。结果表明,基板不加热、蒸发电流采用100A且制备后进行90℃退火处理制备出的酞菁铜薄膜粗糙度最小,表面最光滑。此外,经过高温处理(基板加热或制备后退火)的酞菁铜薄膜会出现"裂痕"。