制备工艺参数对无氢类金刚石薄膜结构及光学性能的影响
来源期刊：材料科学与工程学报2019年第1期
论文作者：冯建 姜宏 马艳平 张振华 那聪
文章页码：40 - 122
关键词：类金刚石薄膜;磁控溅射;透过率;拉曼光谱;
摘 要：采用射频磁控溅射技术在玻璃基底和单晶硅片上制备了无氢DLC薄膜。采用多种技术手段表征了不同工艺参数下制备的DLC薄膜的结构及光学性能。结果表明,溅射功率、工作气压、基底温度和氩气流量的变化对薄膜结构、透过率和光学带隙有较大影响。薄膜内部sp~3键含量、可见光透过率及光学带隙都随溅射功率或基底温度的增加而减小,随工作气压的增大而增加,随氩气流量的增加先增大后减小。在工作气压为2.0Pa时,可制备出I_D/I_G为0.86、可见光区平均透过率为85%、光学带隙为1.68eV的DLC薄膜。
冯建1,2,3，姜宏1,2,3，马艳平1,2,3，张振华4，那聪1,2,3
1. 海南大学材料与化工学院2. 南海海洋资源利用国家重点实验室3. 海南省特种玻璃重点实验室4. 海南中航特玻科技有限公司
摘 要：采用射频磁控溅射技术在玻璃基底和单晶硅片上制备了无氢DLC薄膜。采用多种技术手段表征了不同工艺参数下制备的DLC薄膜的结构及光学性能。结果表明,溅射功率、工作气压、基底温度和氩气流量的变化对薄膜结构、透过率和光学带隙有较大影响。薄膜内部sp~3键含量、可见光透过率及光学带隙都随溅射功率或基底温度的增加而减小,随工作气压的增大而增加,随氩气流量的增加先增大后减小。在工作气压为2.0Pa时,可制备出I_D/I_G为0.86、可见光区平均透过率为85%、光学带隙为1.68eV的DLC薄膜。
关键词：类金刚石薄膜;磁控溅射;透过率;拉曼光谱;
